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爱思强推出PRODOS-200 PVPD™研发系统
  2012-8-8  17:35:24    中国半导体照明网      行业分类:其它    浏览
 

  德国亚琛,2012年8月7日—爱思强推出新型PRODOS-200 PVPDTM系统,致力发展用于沉积有机薄膜材料的新应用。其创新的系统理念为研究聚合薄膜的新沉积工艺提供了研发平台。

 
  

  德国亚琛,2012年8月7日—爱思强推出新型PRODOS-200 PVPDTM系统,致力发展用于沉积有机薄膜材料的新应用。其创新的系统理念为研究聚合薄膜的新沉积工艺提供了研发平台。此外,基于其经过广泛验证的近耦合喷淋头技术,其高沉积速率、优良的沉积均一性和基板尺寸伸缩性,能保证设备便捷地切换至大规模生产工艺。


爱思强PRODOS-200系统为有机电子产业提供新的可能

  因此,这套系统可用于应用前景广泛的有机电子的新工艺开发。(例如,新型柔性导电层;表面特性的控制;以及柔性阻挡层),或改进现有的工艺和结构。

  “我们将这套全新的PRODOS系统发展为模块化、可扩展的平台,适用于各种液态、气态或固态形式原材料进行生产。”爱思强业务发展总监Jürgen Kreis解释说,“因此,它是有机薄膜领域各种应用的理想选择,且由于其采用了模块化设计,可以应用到各种聚合工艺开发之中。”

  PRODOS-200可用于实施多种PVPDTM工艺,其中基于载气的气相沉积可在原处形成聚合薄膜,用于功能性聚合物薄膜层的形成。与通常基于溶液的传统聚合工艺相比,PVPDTM工艺是一种“全干燥工艺”,根据操作原理,溶剂不会产生任何副作用。

  PRODOS-200平台可容纳最大达200x200 mm²的基板,且可通过相关的半兼容接口集成入集群环境。因此,平台可与OVPD 研发系统等其他爱思强系统相兼容,集各种针对有机和无机薄膜的薄膜技术于一身,适用于复杂的工艺环境。因此,这套系统有助于为有机电子元件(OTFT, OPV, OLED)领域开发和应用新化合物。系统采用双壁室结构,不仅极大地方便了维修工作,且可根据其他工艺需要迅速进行改造。

  “爱思强PVPDTM工艺具备众多优势,是用于聚合物薄膜及其特性有助提高效率的新应用的理想选择。”爱思强首席运营官Bernd Schulte博士表示,“我们的客户已成功运用这一工艺生产多种功能性层。聚合物拥有广泛的应用前景。未来我们将继续与各合作伙伴密切合作,不断改进,使这一新技术平台能满足更多工艺需求。”