当前位置: 首页 » 资讯 » 技术 » 基础知识 » 正文

外延生长|磊晶(epitaxial growth)

放大字体  缩小字体 发布日期:2014-01-13 来源:阿拉丁浏览次数:113

外延生长|磊晶的概念

       在合适的衬底基片上生长结晶轴相互一致的结晶层的技术。用于制作没有杂质和缺陷的结晶层。包括在基片上与气体发生反应以积累结晶层的VPE(气相生长)法、以及与溶液相互接触以生长结晶相的LPE(液相生长)法等。

主流技术

       蓝色LED、白色LED以及蓝紫色半导体激光器等GaN类发光元件一般采用VPE法之一的MOCVD(metal Organic Chemical Vapor Deposition)法进行生产。MOCVD采用有机金属气体等作为原料。蓝色LED在蓝宝石基片和SiC基片上,蓝紫色半导体激光器在GaN基片上使用MOCVD装置使得GaN类半导体层形成外延生长。

“404专利”的内容

       提出专利权归属问题而进行诉讼的“404专利”,是将原料气体封入蓝宝石底板表面附近的方式之一。在生长GaN类半导体膜的底板(蓝宝石底板等)表面沿水平方向通入原料气体,同时为了将原料气体固定在底板表面,沿垂直方向向底板表面通入非活性气体。(根据专利公报上刊登的图制作)

       中村修二就其在日亚化学工业工作时所发明专利的“正当价格”与日亚化学工业展开的诉讼中所涉及的GaN类发光元件专利(专利第2628404号,以下称404专利)就是外延生长GaN类半导体层技术的相关专利。404专利是与在蓝宝石基片表面附近封入原料气体的技术。其特点是,在生长GaN类半导体膜的基片(蓝宝石基片等)表面沿水平方向通入原料气体,同时为了将原料气体固定在基片表面,还沿垂直方向向基片表面通入非活性气体。

 
【版权声明】本网站所刊原创内容之著作权为「中国半导体照明网」网站所有,如需转载,请注明文章来源——中国半导体照明网;如未正确注明文章来源,任何人不得以任何形式重制、复制、转载、散布、引用、变更、播送或出版该内容之全部或局部。
 
[ 资讯搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 关闭窗口 ]

 
0条 [查看全部]  相关评论

 
推荐图文
点击排行
关于我们 | 联系方式 | 使用协议 | 版权隐私 | 诚聘英才 | 广告服务 | 意见反馈 | 网站地图 | RSS订阅