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科技部:极大规模集成电路制造工艺获突破

放大字体  缩小字体 发布日期:2014-03-26 来源:中国半导体照明网浏览次数:26

据科技部网站消息,近日,“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项2014年工作务虚会在京召开。会议由科技部曹健林副部长主持,专项第一行政责任人、北京市副市长张工,科技部重大专项办公室、专项领导小组办公室、专项实施管理办公室及科技部、财政部、发展改革委、工信部、中科院等成员单位负责同志、专项咨询委员会及总体专家组有关专家出席了会议。

曹健林副部长表示,专项自实施以来,我国已经在集成电路高端装备、成套工艺、关键材料、封装测试等领域取得了部分突破,一批65-28纳米高端设备通过量产验证,部分实现批量采购,40纳米成套工艺成功量产,光刻机整机集成及零部件技术水平迅速提升,封测产业加速升级,专项成果辐射相关产业应用。

另中国半导体行业协会预计,2014年国内集成电路产业销售额增幅将达到20%,规模将超过3000亿元。工信部电子司副司长彭红兵表示,国家对半导体与集成电路产业发展高度重视,近期要密集出台一系列扶持集成电路行业发展的政策。

据中国半导体行业协会数据,在移动互联网、可穿戴设备等新兴市场的带动下,全球集成电路产业预计2014年将进一步攀升至3181亿美元;而我国集成电路产业销售额将首度超过3000亿元。面对这一机遇,国内众多地方及公司积极布局。目前,集成电路产业结构正处于良性调整阶段。2013年IC设计收入增长19%,设计业在全行业中比重超过30%,重点企业快速成长,本土封装测试企业业绩也有大幅增长。

 
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