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与蓝色 LED 的奇妙相遇,中村修二畅谈光明历程

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-09-06 来源:科技新报浏览次数:234
   诺贝尔物理奖得主中村修二,2015 年 9 月 3 日受邀至台大演讲,分享自己研发高亮度蓝色发光二极体(LED)技术历程,以及接下来固态照明技术的关键发展趋势。LED 大厂晶电、隆达、亿光与台达电也到场参与,现场座无虚席。而中村幽默风趣的演讲,获得在场观众热烈回响。
 
  中村谈到 1980 年代末着手研究蓝色 LED 时,在材料选择上遇到了极大挑战。当时可能实现蓝色 LED 的材料主要有两种,分别是硒化锌(Zinc Selenide,ZnSe)与氮化镓(Gallium Nitride,GaN)。
 
  在不看好声浪下,坚持与众不同
 
  在那个年代,GaN 材料几乎没什么人看好,因为 GaN 与蓝宝石基板晶格不匹配,使晶体结构缺陷密度达 1 x 109 cm-2 以上,品质远远不及 ZnSe,也因此有多达 99 %研究员,都选择以 ZnSe 做为实现蓝光 LED 这块拼图的研究材料,相关研究论文更是多不胜数。
 
  只不过中村偏偏反其道而行,坚持跟别人走不一样的路,选择仅有 1 %人关注的冷门材料 GaN。中村那看似不可能成功的决定,改变了往后的人生,正如同他在个人著作《我的思考,我的光》(考える力、やり抜く力私の方法)中所说,“就像我和蓝色发光二极体奇妙的相遇一般,每个人的人生中都会有不可思议的相遇”。
  ▲中村修二“崭新光明大道”演讲(图片:《科技新报》摄) 实现高亮度蓝色 LED,InGaN 功不可没
 
  为了改善 GaN 与蓝宝石基板之间晶格不匹配的问题,中村以 GaN 为材料在蓝宝石基板上制作缓冲层(Buffer Layer),并为此改造出双气流(Two-Flow)有机金属化学气相沉积(MOCVD)设备,大幅提升磊晶品质,也为实现高亮度蓝色 LED 奠定了基础。
 
  在双气流 MOCVD 辅助下,中村以热退火(Thermal Annealing)制程,有效实现 p 型层 GaN;后来,又成功生长出实现高亮度蓝色 LED 的关键材料氮化铟镓(Indium Gallium Nitride,InGaN),并以InGaN 做为 p 型层 GaN 与 n 型层 GaN 之间的发光层,达成双异质接面结构(Double Heterostructure),改善原本 p-n 同质接面(Homojunction)的 LED 发光效率,实现高亮度蓝色 LED。
 
  InGaN 对产生高亮度蓝色 LED、蓝色半导体激光及蓝紫色半导体激光,都是不可或缺的要角,中村也因此称之为“神奇材料”,但诺贝尔奖在授奖说明中对InGaN 贡献只字未提,也让中村不只一次表达心中的遗憾。
  ▲中村修二与同为 2014 诺贝尔物理奖得主赤崎勇(Isamu Akasaki)、天野浩(Hiroshi Amano),各自在实现蓝色 LED 上所做的贡献
 
  (图片:翻摄简报内容)次世代照明趋势,聚焦 GaN on GaN、LD 技术
 
  至于接下来固态照明技术趋势,除了利用“GaN on GaN”技术制造紫色 LED,继而产生发光一致、更纯净均匀的白光外,中村也指出激光照明将会是产业发展关键。相较于 LED,激光二极体(Laser Diode,LD)能够实现更高效率照明,中村认为 LD 在不久的将来会相当有市场。
 
  中村不受传统框架束缚、勇于挑战,执着且不轻言放弃的个性,让他在遭遇无数失败下仍然奋力前行,这些历程都为后来的成功奠定基石,也获致今日的成就,为人类生活做出极大贡献,影响深远。
 
  (首图来源:《科技新报》摄于“崭新光明大道”中村修二教授演讲会场)
 
 
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