国星光电（002449）于21日发布公告称，公司于近日取得一项发明专利，并获得了由国家知识产权局颁发的专利证书。专利名称用于在晶圆级封装中暴露电极的方法及掩膜版,专利号ZL201210194780.9,专利期限20年。
公告称，该专利的专利权人为公司。此项专利的取得不会对公司生产经营产生重大影响，但有利于保护和发挥公司自主知识产权优势，形成持续创新机制，保持技术领先地位，提升公司的核心竞争力。
国星光电4月21日公告，预计2015年1-6月归属于上市公司股东的净利润变动区间为7,089.45万元至8,378.44万元，比上年同期增长10.00%至30.00%。业绩变动的原因说明公司营业收入增长所致。
