拓荆科技成立于2010年4月，是我国高端半导体设备领军企业。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成晶圆制造三大核心设备。
作为高端半导体专用设备领先企业，拓荆科技一直坚持自主创新发展，凭借一系列独创性的设计、完善的知识产权体系及核心技术，开始在国际市场崭露头角并引领市场。
目前，拓荆科技的产品已广泛应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，在不同种类芯片制造产线的多道工艺中得到商业化应用。
值得一提的是，在半导体设备领域，国家集成电路基金、国投上海等先后成为拓荆科技重要股东。
近年来，依托行业政策利好及巨大的市场空间，拓荆科技不断投入研发，吸引半导体人才，逐步补齐半导体制造端的短板。2018年至2020年及2021年前三季度，公司研发投入分别占各期营业收入的152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。
相关业内人士表示，半导体行业技术更新快、投资占比高、验证壁垒高，半导体设备需要超前上游开发新一代设备。因此，半导体设备供应商需要不断推出更先进的制造工艺，革新技术水平。
