11月7日上午9时，第十一届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA2014)在广州广交会威斯汀酒店盛大开幕。这次论坛以互联网时代的光应用为主题，紧扣LED产业、智能化、精密化、跨界应用方向，产业精英汇集，为LED产业的发展开拓新的领域、新的空间。来自美国的MOCVD设备供应商美国维易科(Veeco)精密仪器有限公司也在下午举行了“MOCVD技术的发展加速半导体照明普及”培训会。
记者了解到，在今年9月份Veeco就推出了最新的TurboDiscEPIK700氮化镓(GaN)金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统，结合了该行业最高的生产率与最佳良率这两大优势，运营成本低，从而进一步降低通用照明应用的发光二极管(LED)的制造成本。并且，在9月26日，Veeco宣布晶元光电已成功评估并验收了新产品Turbo Disc EPIK700氮化镓(GaN)金属有机化学气相沉积(MOCVD
此则消息一出，给半导体照明产业界带来新的竞争方向。并且，Veeco此次培训会借助SSLCHINA2014国际论坛成功给中国客户进行MOCVD新技术普及。培训会上， Veeco副总裁Tim Liu先生出席活动并做了主题演讲，对公司在中国的市场进行简要分析，并希望通过不断的技术革新，更好地服务于中国客户。
同时，由于LED照明爆发性的增长需求，将带动MOCVD需求量的增加。据国外研究机构的预测，到2020年，手机部分所需MOCVD设备数量将达到250台，LED TV背光应用所需MOCVD设备数量将达到1500台。而随着通用照明应用规模的持续增长，LED照明所需MOCVD台数将达到数千台。
CSA Research指出，根据对全球主要MOCVD供应商的出货量和我国近年新安装MOCVD的数量对比，可以看出，近年来我国半导体照明产业对MOCVD的需求量一直占全球需求量的60%以上，是全球需求量最高的地区。预计2014年我国新增MOCVD数量将在150台左右，总数将达到1240台。
并且，中国MOCVD市场已经受到LED照明产业的强力带动，每年新增MOCVD设备机台数量效益可观。同时，随着MOCVD设备的技术创新，LED芯片企业设备的更新换代时间缩短，未来中国市场增长空间不可小觑。
也许，Veeco正是看中了中国市场的增长潜力，将新产品TurboDiscEPIK700突破性革新技术，在中国进行客户的集中普及。Veeco市场总监Mark Mckee先生也是在不断的拍照和提问中将新设备的特点优势做了进一步介绍。
据介绍，EPIK700 MOCVD系统采用了Veeco大生产验证过的TurboDisc技术，具有行业内最大的反应腔，其产能相当于目前的其它反应腔的两倍多。反应腔的容量增加，再加上腔内波长均匀性以及生产力的提升，与之前的反应腔相比，其产量提高了2.5倍。
随后，Veeco技术总监Russell Low先生对关键生产率提高促使TurboDiscEPIK700的成本收益最大化做了详细介绍。Mark Mckee先生也随后对EPIK700系统工艺切换简单、快速投产等优势做了进一步介绍。Veeco技术主管George Papasouliotis先生也对该系统确保最佳均匀性，工艺重复性和更高良率做了技术分析。
与此同时，Veeco不仅仅凭借EPIK700 MOCVD系统突出的性能影响着全球半导体芯片制造业，其服务部门的GC Christopher Chang先生也对升级及维修服务确保性能品质的提升做详细阐述，也给现场客户免去了实际生产过程中的维护之忧。
在培训会即将结束时，还精心设置了激动人心的幸运抽奖环节，令在座的客户兴奋不已。随后，Veeco美国高层为抽出的5名幸运者也一一颁发了奖品。最后，Veeco在场全体高管向在座客户鞠躬致谢，表达了对客户的感激之情。
