当前位置: 首页 » 资讯 » 产业资讯 » 产业 » 新材料 » 正文

三星发现全新半导体材料,有望推动下一代半导体芯片发展

放大字体  缩小字体 发布日期:2020-07-07   来源:IT之家  浏览次数:463
   三星电子周一宣布,发现了一种全新半导体材料 “无定形氮化硼 (amorphous boron nitride),简称 a-BN”,并表示有望推动下一代半导体芯片的加速发展。
 
  近年来,三星 SAIT一直在研究二维(2D)材料具有单原子层的晶体材料的研究和开发。具体而言,该研究所一直致力于石墨烯的研究和开发,并在该领域取得了突破性的研究成果,例如开发新的石墨烯晶体管以及生产大面积单晶晶片的新方法。石墨烯。除了研究和开发石墨烯外,SAIT还致力于加速材料的商业化。
 
  “为了增强石墨烯与基于硅的半导体工艺的兼容性,应在低于 400°C 的温度下在半导体衬底上进行晶圆级石墨烯生长。” SAIT的石墨烯项目负责人兼首席研究员 Shin Hyeon-Jin Shin 表示。“我们还在不断努力,将石墨烯的应用范围扩展到半导体以外的领域。”
  新发现的材料称为无定形氮化硼(a-BN),由具有非晶分子结构的硼和氮原子组成。尽管非晶态氮化硼衍生自白色石墨烯,其中包括以六边形结构排列的硼和氮原子,但实际上 a-BN 的分子结构使其与白色石墨烯具有独特的区别。
 
  无定形氮化硼具有 1.78 的同类最佳的超低介电常数,具有强大的电气和机械性能,可以用作互连隔离材料以最大程度地减少电干扰,还证明了该材料可以在仅 400°C 的低温下以晶圆级生长。因此,预计无定形氮化硼将广泛应用于诸如 DRAM 和 NAND 解决方案的半导体,尤其是在用于大型服务器的下一代存储器解决方案中。
 
  IT之家了解到,SAIT副总裁兼无机材料实验室负责人Park Seongjun Park表示:“最近,人们对2D材料及其衍生的新材料的兴趣不断增加。但是,将材料应用于现有的半导体工艺仍然存在许多挑战,我们将继续开发新材料来引领半导体范式的转变。”
 
【版权声明】本网站所刊原创内容之著作权为「中国半导体照明网」网站所有,如需转载,请注明文章来源——中国半导体照明网;如未正确注明文章来源,任何人不得以任何形式重制、复制、转载、散布、引用、变更、播送或出版该内容之全部或局部。
 
[ 资讯搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 关闭窗口 ]

 
0条 [查看全部]  相关评论

 
推荐图文
点击排行
关于我们 | 联系方式 | 使用协议 | 版权隐私 | 诚聘英才 | 广告服务 | 意见反馈 | 网站地图 | RSS订阅