据招股书申报稿显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm 及以下制程产品验证测试。
值得一提的是，拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD 设备厂商，公司产品已成功应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、厦门联芯、燕东微电子等行业领先集成电路制造企业产线，累计发货超150套机台，不同工艺型号的机台配适国内厂商各类介质薄膜沉积的制造需求，有效降低国内集成电路生产线对国际设备厂商的依赖。
由于公司目前有营收但尚未盈利，拓荆科技特别选择了“市值+营收”的第四套上市标准，即“预计市值不低于人民币30 亿元，且最近一年营业收入不低于人民币3亿元。”
本次公司拟募集资金10亿元，投向高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目，以及补充流动资金。
招股书申报稿显示，最近两年，拓荆科技第一大股东所持股股权比例不足控股，其他股东持股比例相对分散，使得公司不存在控股股东、实际控制人。
尽管无控股股东，但拓荆科技股东榜却云集了国内半导体产业的多家重量级公司。国家集成电路基金、国投上海、中微公司分别持有公司26.48%、18.23%、11.2%的股权。公司董事长吕光泉持有公司50万股，占总股本的0.53%。
